As máquinas de litografia são algumas das mais complexas e caras usadas no fabrico de chips. Estes aparelhos geram feixes constantes de luz no espectro ultravioleta e filtram-na até que se assemelhe a um microprocessador.
Ora a Huawei patenteou agora um componente usado em sistemas de litografia EUV que é necessário para fabricar processadores de ponta abaixo de 10 nanómetros, o que resolve o problema dos padrões de interferência criados pela luz ultravioleta.
A Huawei resolveu, assim, um problema na última etapa no fabrico de chips causado pelos minúsculos comprimentos de onda da luz ultravioleta extrema (EUV). A sua patente descreve uma série de espelhos que dividem o feixe de luz em vários sub-feixes que colidem com os seus próprios espelhos microscópicos. Cada um deles gira de maneira diferente para criar diferentes padrões de interferência na luz, de modo que, quando se recombinam, os padrões de interferência cancelam-se para criar um feixe uniforme.
Atualmente, os sistemas de litografia EUV são fabricados exclusivamente pela empresa holandesa ASML. A litografia EUV baseia-se nos mesmos princípios das formas mais antigas de litografia, mas usa luz com um comprimento de onda de cerca de 13,5 nm, que é quase um raio-X. O ASML gera a luz ultravioleta a partir de gotículas de estanho fundido em movimento rápido, com cerca de 25 mícrones de diâmetro.
“À medida que caem”, explica a ASML, “as gotículas são atingidas primeiro por um impulso de laser de baixa intensidade que as achata em forma de panqueca. Em seguida, um impulso de laser mais poderoso vaporiza a gota achatada para criar um plasma que emite luz EUV. Para produzirem luz suficiente para fabricar microchips, este processo é repetido 50 mil vezes a cada segundo”.
Por enquanto, apenas cinco empresas estão a usar ou anunciaram planos de usar sistemas de litografia ASML EUV: Intel e Micron nos Estados Unidos, Samsung e SK Hynix, na Coreia do Sul, e TSMC em Taiwan.
Anteriormente, empresas chinesas como a Huawei podiam enviar os seus projetos para fábricas como a TSMC para o fabrico de microchips com litografia EUV. Mas desde que os Estados Unidos impuseram sanções à China, isso é cada vez mais difícil. A Huawei precisa de acesso aos nós avançados que usam litografia EUV para continuar a melhorar os seus processadores personalizados, que são utilizados em quase tudo, desde smartphones a data centers.
Fonte: TechSpot